TN-EVS180G-LV 等離子濺射熱蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能；該小型二合一鍍膜儀采用高純石英腔體作真空腔體，鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-1Pa的真空度，可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本小型二合一鍍膜儀體積小能夠置于試驗臺上使用，一機多用，性價比突出，非常適合各大高校及研究機構選用。

產品名稱	等離子濺射熱蒸發二合一鍍膜儀
產品型號	TN-EVS180G-LV
主要特點	等離子濺射和蒸發二合一，一機多用，性價比突出 高純石英腔體作真空腔體，鍍膜過程完全可見 采用高純石英腔體作真空腔體，鍍膜過程完全可見。 儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-1Pa的真空度
技術參數	樣品臺：直徑80mm, 至蒸發源距離 20mm~50mm 可調 濺射頭：直流、尺寸：2inch *1 濺射電源：直流電源 150W max. 蒸發系統：鎢絲藍、 max1700℃、S型熱電偶 真空腔體：直徑180mm*150mm、高純石英、頂蓋拆卸式 全向透明 真空系統：機械泵（旋片泵：1.1 L/S）、極限真空：1.0E-1Pa、電阻規測量、KF16 抽氣排氣接口、供電電源：AC;220V 50/60Hz
產品規格	尺寸：360mm*300mm*470mm、 重量：約20kg、功率1.5KW