0371-5536 5392 0371-5519 9322
TN-MSP210S-RFDC小型雙靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機構，將設備外形限制在了實驗室級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源一個射頻電源，直流靶可用于金屬及其他導電材料的濺射，射頻電源可用于各種非金屬和金屬氧化物等的濺射。設備真空系統采用全進口真空泵，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。
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桌面型雙靶磁控鍍膜儀 |
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樣品臺 |
尺寸 |
φ150mm |
加熱 |
*高500℃ |
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轉速 |
0-20可調 |
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磁控濺射靶 |
數量 |
2” x2 雙靶共用一擋板 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ210mm X 230mm |
觀察窗口 |
φ40mm |
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腔體材料 |
SS304不銹鋼 |
開啟方式 |
前開門式 |
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真空系統 |
機械泵 |
進口無油隔膜泵 |
抽氣接口 |
KF16 |
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分子泵 |
進口分子泵 |
抽氣接口 |
KF40 |
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真空測量 |
電阻規+電離規 |
排氣接口 |
KF16 |
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極限真空 |
1.0E-3Pa |
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
無油泵 0.49L/s 分子泵：40L/S |
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電源配置 |
數量 |
直流電源 x1 射頻電源x1 |
*大輸出功率 |
直流電源500W 射頻電源500W |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
550mm X 550mm X1100mm |
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整機功率 |
2kW |
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