TN-MSP210S-2DC本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，前開門式設計，門上配有石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄。同時設備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。頂蓋上裝有一套擋板，可通過轉(zhuǎn)動擋板切換兩支靶，實現(xiàn)多層鍍膜。

名稱	桌面雙靶直流磁控濺射鍍膜儀
型號	TN-MSP210S-2DC
特點	自主研發(fā)、高性價比 結(jié)構緊湊可放置于桌面 1英寸或2英寸，標準尺寸磁控靶 雙直流電源，共同濺射或者多次濺射
參數(shù)	1、旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺：尺寸φ100mm；加熱溫度：max temp:500℃；控溫精度：±1℃；轉(zhuǎn)速：1-20rpm可調(diào) 2、磁控濺射頭：數(shù)量2” ×2（1”,2”可選） 水冷 3、真空腔體：尺寸：φ210mm ×260mm、材料 ：不銹鋼；前開門式；φ40mm的觀察窗 4、真空系統(tǒng)：分子泵組 前級泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 次級泵 渦輪分子泵（國產(chǎn)） 抽速 600L/s 抽氣口 KF40 出氣口 KF16 5、濺射電源：直流電源 ×2；輸出功率 ≤300W ; 輸出電壓 ≤600V ;響應時間 ＜5ms 6、水冷系統(tǒng) 水箱容積 9L 流量 10L/min 7、膜厚儀 測量精度 0.1埃米 冷卻方式 水冷
規(guī)格	尺寸：500mm × 350mm × 400mm；重量50kg ；電壓：AC220V,50Hz；功率：4KW

注意：本設備需要配合高真空分子泵組一起使用，用戶可以選擇進口品牌小型分子泵以進一步節(jié)省安裝面積。

 同時該型號可選配膜厚儀組件，可實時監(jiān)測膜厚數(shù)據(jù)，為實驗工藝提供可靠參數(shù)

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